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光学镀膜理论

类别:行业新闻   发布时间:2019-05-08 09:23   浏览:

镀膜控制穿过光学干涉机制的反射光和透射光。当两个光束沿着同步路径传输及其相位匹配时,波峰值的空间位置也匹配并将结合创建较大的总振幅。当光束为反相位(180°位移)时,其叠加会导致在所有峰值的消减效应,导致结合的振幅降低。这些效应被分别称为建设性和破坏性的干涉。
 
光的波长和入射角通常是指定的,折射率和层厚度则可以有所不同以优化性能。上述的任何更改将会影响镀膜内光线的路径长度,并将在光透射时改变相位值。这种效应可简单地通过单层增透膜例子说明。当光传输穿过系统时,在镀膜任一侧的两个接口指数更改处将出现反射。为了使反射最小化,当两个反射部分在第一界面处结合时,我们希望它们之间具有180°相位差。这个相位差异直接对应于aλ/2位移的正弦波,它可通过将层的光学厚度设置为λ/4获得最佳实现。
 
镀膜技术
蒸发沉积
在蒸发沉积时,真空室中的源材料受到加热或电子束轰击而蒸发。蒸气冷凝在光学表面上。在蒸发期间,通过精确控制加热,真空压力,基板定位和旋转可以制造出具有特定厚度的均匀光学镀膜。 蒸发具有相对温和的性质,会使镀膜变得松散或多孔。 这种松散的镀膜具有吸水性,改变了膜层的有效折射率,将导致性能降低。通过离子束辅助沉积技术可以增强蒸发镀膜,在该过程中,离子束会对准基片表面。这增加了源材料相对光学表面的粘附性,产生更多应力,使得镀膜更致密,更耐久。
 
离子束溅射(IBS)
在离子束溅射(IBS)时,高能电场可以加速离子束。 这种加速度使得离子具有显着的动能。在与源材料撞击时,离子束会将靶材的原子“溅射”出来。 这些被溅射出来的靶材离子(原子受电离区影响变为离子)也具有动能,会在与光学表面接触时产生致密的膜。 IBS是一种精确的,重复性强的技术。