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蒸发镀膜与溅射镀膜的区别

类别:行业新闻   发布时间:2019-05-10 09:26   浏览:

蒸发镀膜和溅射镀膜各有优点,应该依具产品和工艺来决定使用哪种。
 
一般:蒸发镀膜速率快,重复性相对较差,薄膜的附着力相对较低,材料利用率高
 
溅射镀膜成膜速率相对慢,重复性好。薄膜的附着力大,材料利用率相对低
 
中频磁控溅射的基本原理:利用磁场与电子交互作用,使电子在靶表面进行螺旋状运行,从而增大电子撞击氩气产生离子的概率,所产生的离子在电场作用下撞击靶面,从而溅射出靶材。
 
采用中频溅射的优点是可得到光滑致密,膜层硬度高,膜厚可线性增长,不中毒,温升缓和,但設備的要求較高,工作壓強範圍很窄,各種控制要求快速精準.
 
应用多层膜干涉原理的薄膜防伪技术主要有两种:一种是“整膜”的薄膜防伪技术;另一种是“碎膜”防伪技术。整膜和碎膜是指膜的形态而言。整膜是指一般意义上的防伪膜系;碎膜是指对反射式防伪膜系进行破碎,然后将碎片加入油墨中制成防伪油墨,再用这种防伪油墨进行防伪印刷。
 
防伪膜种类很多,从使用方法可分为反射式和透射式;从膜系附着方式可以分为直接镀膜式、间接镀膜转移式或间接镀膜剪贴式。