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光学镀膜前清洗的重要性

类别:行业新闻   发布时间:2019-05-13 09:09   浏览:

光学镀膜前清洗的重要性
 
光学镀膜已成为大部分光学产品不可或缺的一道工艺,薄膜通过干涉光的透过率、波段、折射率等参数来修正光学产品自身材质所带来的天然不足。
 
镀膜的应用从日常的眼镜、手机相机、家电用品,到专业领域的相机镜头、仪器镜头,一些防伪技术等。近代光电、通讯、镭射等技术也是基于光学镀膜技术为基础才能发展到水平。
 
镀膜技术发展到现在阶段,决定镀膜成败的往往是基材自身的洁净程度以及前后工序对材料整体的影响,例如基材带油墨进行镀膜。所以镀膜前对基材的清洗就显得尤为关键。
 
温和清洗剂虽然在清洗针对性脏污比不上专门针对性清洗剂,比如在清洗抛光粉在清洗效果与清洗效率上比不上抛光粉专用清洗剂,但是由于工件在进行到镀膜前这一道工序时,早已将抛光粉抛光液等脏污清洗干净,而普遍残留的物质只是一些清洗剂残留和加工过程中的脏污。